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目前的单晶炉大部分采用软轴提拉系统。由于受到液/固相变规律的制约，单晶炉在实际工作中要求提拉机构既要旋转运动，又要上升运动，同时还要保持速度稳定，对中性好，不能出现蠕动和摆动。提拉系统的晃动会引起生长瞬间微观扩散层的变化，造成有效分凝系数的变动，导致微观掺杂剂浓度分布的径向不均匀，引起对流情况不稳定，导致生长时固液界面过冷度的变化，为枝晶生长条件[1]。单晶炉是人工晶体的专用设备基于ANSYS软轴型单晶炉提拉系统晃动分析\人工晶体是太阳能光伏发电产业和半导体行业发展所需的核心原材料会严重地影响单晶体的内在品质。因此找出引起提拉系统软轴晃动。挥发物沉积，挥发物主要指钼、钨、熔体及其中的杂质等。挥发物的沉积在晶体生长过程中无法避免，主要沉积在上保温屏、锅盖及加热器处，由于挥发物的存在，在晶体生长初始阶段，需要更高的加热功率；而晶体生长后期，挥发物使得炉体内的保温效果好，同样加热功率下，温度会升高，因此，为获得同样的晶体质量，则需要更大的功率降幅。